紫外線表面清洗知識普及！

一：紫外線表面清洗

紫外線表面清洗是近年來新興的清洗方法。紫外線表面清洗法不同于原有清洗法，沒有污水，污氣產生。是高能環保型清洗殺菌方法。廣泛運用于LCD,PCB，點子，印刷，塑膠，玻璃，涂裝等領域。

紫外線清洗是是利用有機化合物的光敏氧化作用達到去除附著在材料表面的有機物質。經過廣清洗后的材料表面可以達到高清潔度。

其主要原理為紫外線燈發出的 185nm波長和254nm波長具有很高的能量，高于大多數有機物的結合能量。由于大多數碳氫化合物對185nm波長的紫外線具有較強的吸收能力，并且可以在吸收185nm波長后分解成例子，流利態院子，受激分子和中子等，這就是光敏作用。空氣中的氧分子在吸收了185nm波長的紫外光后，會產生臭氧和氧氣，臭氧對254nm波長具有很強的吸收性，臭氧有可以分解為氧原子和氧氣。氧原子具有極強的氧化性，可以將碳氫化合鍵切斷，生成水，二氧化碳等易揮發氣體，從被照射物表面飄逸出，徹底清除物體表面的污染物。這就是紫外線清洗的原理。

清洗法有干洗和濕洗兩種。干洗有UV臭氧清洗，等離子清洗，離子清洗等。濕洗有水洗，堿清洗，酸清洗，液體噴射清洗等。我們日常所熟悉的濕式清洗有可以清洗掉較大范圍污染的優點。但是也會有清洗不掉的污染。同時由于清洗的溶劑會在被清洗物表面殘留，因此對于高精密世界來說也是個污染。

與此相反UV紫外線清洗雖然不能清洗掉大范圍的污染，卻可以清洗到各個角落的就是光洗凈技術（以下簡稱UV臭氧清洗）。在納米技術世界里，我們雖然看不到有機性污染，但是有機污染在表面形成膜（軟接著層）如果在這層膜上印刷的話，就會出現鮮度惡化以及針孔等障礙。UV臭氧清洗可以去除的污染有有機化合物以及含有油脂的污染等。

二：聯系方式